Resumen: CyberOptics presentará una metodología probada para identificar y resolver problemas causados por partículas en suspensión en el EMLC 2015

EINDHOVEN, Países Bajos–(BUSINESS WIRE)–CyberOptics®
Corporation
(NASDAQ: CYBE), desarrollador y fabricante de soluciones
de tecnología de sensores 3D de alta precisión líder en el mundo, estará
presente en la 31ª conferencia europea de máscaras y litografía (EMLC en
sus siglas en inglés) de 2015, en el hotel Pullman de Eindhoven el 22 y
23 de junio. La conferencia de dos días se centra en la ciencia,
tecnología, ingeniería y aplicación de las tecnologías de máscaras y
litografía y los procesos relacionados.

Allyn Jackson, ingeniero de aplicaciones de campo en CyberOptics,
compartirá sus conocimientos, mejores prácticas y saber hacer técnicos
para identificar y resolver partículas en entornos fotolitográficos. La
sesión de pósters tendrá lugar el lunes, 22 de junio de 2015 entre las
17:30 y las 18:40 en la sala Winteruin de la exposición técnica.

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del mismo. La traducción es solamente un medio de ayuda y deberá
ser comparada con el texto en idioma original, que es la única versión
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