Resumen: CyberOptics presentará una metodología probada para identificar y resolver problemas causados por partículas en suspensión en el EMLC 2015
EINDHOVEN, Países Bajos–(BUSINESS WIRE)–CyberOptics®
Corporation (NASDAQ: CYBE), desarrollador y fabricante de soluciones
de tecnología de sensores 3D de alta precisión líder en el mundo, estará
presente en la 31ª conferencia europea de máscaras y litografía (EMLC en
sus siglas en inglés) de 2015, en el hotel Pullman de Eindhoven el 22 y
23 de junio. La conferencia de dos días se centra en la ciencia,
tecnología, ingeniería y aplicación de las tecnologías de máscaras y
litografía y los procesos relacionados.
Allyn Jackson, ingeniero de aplicaciones de campo en CyberOptics,
compartirá sus conocimientos, mejores prácticas y saber hacer técnicos
para identificar y resolver partículas en entornos fotolitográficos. La
sesión de pósters tendrá lugar el lunes, 22 de junio de 2015 entre las
17:30 y las 18:40 en la sala Winteruin de la exposición técnica.
El comunicado en el idioma original, es la versión oficial y autorizada
del mismo. La traducción es solamente un medio de ayuda y deberá
ser comparada con el texto en idioma original, que es la única versión
del texto que tendrá validez legal.
Contacts
GrauPR
Lisa Grau, 760-207-9090
lisa@graupr.com
o
CyberOptics
Carla
Pihowich, 952-229-4240
cpihowich@cyberoptics.com